Informazioaren eta optoelektronikaren alorreko garapen azkarrak leunketa mekaniko kimikoen (CMP) teknologiaren etengabeko eguneratzea bultzatu du.Ekipamendu eta materialez gain, zehaztasun ultra-altuko gainazalak eskuratzea eraginkortasun handiko partikula urratzaileen diseinuaren eta produkzio industrialaren menpekoa da, baita dagokion leuntzeko minda prestatzearena ere.Eta gainazal prozesatzeko zehaztasun eta eraginkortasun eskakizunen etengabeko hobekuntzarekin, eraginkortasun handiko leuntzeko materialen baldintzak ere gero eta handiagoak dira.Zerio dioxidoa oso erabilia izan da gailu mikroelektronikoen eta doitasuneko osagai optikoen gainazaleko doitasun mekanizazioan.
Zerio oxidoa leuntzeko hautsak (VK-Ce01) leuntzeko hautsak ebaketa-gaitasun sendoa, leuntzeko eraginkortasun handia, leuntzeko zehaztasun handia, leuntzeko kalitate ona, funtzionamendu-ingurune garbia, kutsadura baxua, bizitza luzea, etab., abantailak ditu eta oso erabilia da. zehaztasun optikoko leunketa eta CMP, etab. eremuak oso posizio garrantzitsua hartzen du.
Cerio oxidoaren oinarrizko propietateak:
Ceria, cerio oxido bezala ere ezaguna, cerioaren oxidoa da.Une honetan, zerioaren balentzia +4 da, eta formula kimikoa CeO2 da.Produktu purua hauts astun zuria edo kristal kubikoa da, eta produktu ezpurua horia argia edo arrosa arrosa-marroi-gorrixka hauts da (lantano, praseodimio, etab. arrastoak dituelako).Giro-tenperaturan eta presioan, ceria cerioaren oxido egonkorra da.Cerioak +3 balentzia ere sor dezake Ce2O3, ezegonkorra dena eta O2-rekin CeO2 egonkorra osatuko duena.Zerio oxidoa apur bat disolbagarria da uretan, alkalietan eta azidoetan.Dentsitatea 7,132 g/cm3 da, urtze-puntua 2600 ℃ eta irakite-puntua 3500 ℃.
Zerio oxidoa leuntzeko mekanismoa
CeO2 partikulen gogortasuna ez da handia.Beheko taulan erakusten den bezala, zerio oxidoaren gogortasuna diamantearen eta aluminio oxidoarena baino askoz txikiagoa da, eta zirkonio oxidoarena eta silizio oxidoarena baino txikiagoa da, oxido ferrikoaren baliokidea dena.Beraz, teknikoki ez da bideragarria silizio oxidoan oinarritutako materialak, hala nola, silikatozko beira, kuartzozko beira, etab., gogortasun baxuko zeriarekin ikuspuntu mekanikotik soilik kentzea.Hala ere, zerio oxidoa da gaur egun leuntzeko hauts hobetsia silizio oxidoan oinarritutako materialak edo are silizio nitruroa leuntzeko.Ikus daiteke zerio oxidoa leuntzeak efektu mekanikoez gain beste efektu batzuk ere badituela.Diamantearen gogortasunak, gehien erabiltzen den artezteko eta leuntzeko materiala, CeO2 sarean oxigeno hutsuneak izan ohi ditu, eta horrek propietate fisiko eta kimikoak aldatzen ditu eta leuntzeko propietateetan nolabaiteko eragina du.Gehien erabiltzen den zerio oxidoa leuntzeko hautsek beste lur arraroen oxido batzuk dituzte.Praseodimio oxidoak (Pr6O11) aurpegian zentratutako sare kubikoko egitura ere badu, leuntzeko egokia dena, eta beste lanthanido lur arraroen oxidoek ez dute leuntzeko gaitasunik.CeO2-ren kristal-egitura aldatu gabe, harekin soluzio solido bat sor dezake tarte jakin baten barruan.Garbitasun handiko nano-zerio oxidoa leuntzeko hautsarentzat (VK-Ce01), zenbat eta garbitasun handiagoa izan zerio oxidoaren (VK-Ce01), orduan eta leuntzeko gaitasun handiagoa eta bizitza luzeagoa izango da, batez ere beira gogor eta kuartzozko lente optikoetarako. Denbora luze.Leunketa ziklikorako, zerio oxidozko leuntzeko hautsa garbitasun handiko (VK-Ce01) erabiltzea komeni da.
Cerio oxidoa leuntzeko hautsaren aplikazioa:
Cerio oxidoa leuntzeko hautsa (VK-Ce01), batez ere beira produktuak leuntzeko erabiltzen da, batez ere eremu hauetan erabiltzen da:
1. Betaurrekoak, kristalezko lenteen leunketa;
2. Lente optikoa, beira optikoa, lentea, etab.;
3. Telefono mugikorraren pantailaren beira, erlojuaren azalera (erlojuaren atea), etab.;
4. LCD monitorea mota guztietako LCD pantaila;
5. Rhinestones, diamante beroak (txartelak, diamanteak bakeroetan), argiztapen pilotak (luxuzko kriseiluak areto handian);
6. Kristalezko eskulanak;
7. Jadearen leunketa partziala
Gaur egungo zerio oxidoa leuntzeko deribatuak:
Cerio oxidoaren gainazala aluminioz dopatuta dago beira optikoaren leunketa nabarmen hobetzeko.
UrbanMines Tech-eko Teknologia Ikerketa eta Garapen Saila.Mugatua, leuntzeko partikulen konposaketa eta gainazal aldatzea CMP leuntzearen eraginkortasuna eta zehaztasuna hobetzeko metodo eta planteamendu nagusiak direla proposatu zuen.Partikulen propietateak osagai anitzeko elementuen konposaketarekin sintonizatu daitezkeelako eta leuntzeko mindaren dispertsio-egonkortasuna eta leuntzeko eraginkortasuna hobetu daitezke gainazaleko aldaketaren bidez.TiO2-rekin dopatutako CeO2 hautsaren prestaketa eta leunketa-errendimenduak leuntzeko eraginkortasuna % 50 baino gehiago hobetu dezake, eta, aldi berean, gainazaleko akatsak % 80 murrizten dira.CeO2 ZrO2 eta SiO2 2CeO2 oxido konposatuen leunketa efektu sinergikoa;horregatik, dopatutako ceria mikro-nano oxido konposatuen prestaketa teknologiak garrantzi handia du leuntzeko material berriak garatzeko eta leuntzeko mekanismoaren eztabaidarako.Dopin-kopuruaz gain, sintetizatutako partikulen dopatzailearen egoerak eta banaketak ere asko eragiten du gainazaleko propietateetan eta leuntzeko errendimenduan.
Horien artean, estalduraren egitura duten leuntzeko partikulen sintesia erakargarriagoa da.Hori dela eta, metodo eta baldintza sintetikoak hautatzea ere oso garrantzitsua da, batez ere metodo sinpleak eta errentagarriak direnak.Zerio karbonato hidratatua lehengai nagusi gisa erabiliz, aluminioz dopatutako cerio oxidoa leuntzeko partikulak sintetizatu ziren fase solido hezearen metodo mekanokimikoaren bidez.Indar mekanikoaren eraginez, zerio karbonato hidratatuaren partikula handiak partikula finetan zatitu daitezke, eta aluminio nitratoak amoniako urarekin erreakzionatzen du partikula koloidal amorfoak sortzeko.Partikula koloidalak erraz lotzen dira zerio karbonato partikulei, eta lehortu eta kaltzinatu ondoren, aluminiozko dopaketa lor daiteke cerio oxidoaren gainazalean.Metodo hau aluminio-doping-kopuru ezberdinekin zerio oxidoaren partikulak sintetizatzeko erabili zen, eta haien leunketa-errendimendua ezaugarritu zen.Cerio oxido partikulen gainazalean aluminio kopuru egoki bat gehitu ondoren, gainazaleko potentzialaren balio negatiboa handitu egingo zen, eta horrek partikula urratzaileen arteko tartea sortuko zuen.Errepulsio elektrostatiko indartsuagoa dago, eta horrek esekidura urratzailearen egonkortasuna hobetzen du.Aldi berean, Coulomb erakarpenaren bidez partikula urratzaileen eta positiboki kargatutako geruza bigunaren arteko elkarrekiko xurgapena ere indartuko da, eta hori onuragarria da beira leunduaren gainazaleko urratzailearen eta geruza leunaren arteko elkarrekiko harremanetarako, eta sustatzen du. leunketa-tasa hobetzea.